什么是滅弧室動態(tài)絕緣
本文作者:大禹漢光 發(fā)布時間:2015-08-03
真空滅弧室動態(tài)絕緣的兩個因素是開斷后觸頭間介質(zhì)強(qiáng)度的恢復(fù)速度和恢復(fù)電壓的上升速度。圖1為恢復(fù)電壓和介質(zhì)恢復(fù)強(qiáng)度的理想波形。真空滅弧室在開斷后可以承受的電壓上升率(du/dt)實際上反映了真空滅弧室的介質(zhì)強(qiáng)度恢復(fù)能力,它的水平不但決定了真空滅弧室的額定工作電壓,同時也決定了分?jǐn)嗄芰Α?/p>
圖恢復(fù)電壓與介質(zhì)恢復(fù)強(qiáng)度理想波形,其中UT為恢復(fù)電壓波形,UD為介質(zhì)恢復(fù)強(qiáng)度真空開關(guān)的機(jī)械參數(shù)對開斷后真空滅弧室的介質(zhì)恢復(fù)強(qiáng)度有很大的影響。主要表現(xiàn)在:(1)觸頭開距和分閘速度的影響。如觸頭開距過小或分閘速度過低,觸頭間介質(zhì)強(qiáng)度的恢復(fù)速度將小于恢復(fù)電壓的上升速度,容易引起電弧的重燃;(2)合閘速度和觸頭壓力的影響。合閘速度過高產(chǎn)生彈跳易引起熔焊,合閘速度過低預(yù)擊穿時間過長易引起熔焊,觸頭壓力不足易引起熔焊。真空開關(guān)在分閘時由于拉斷熔焊點會破壞觸頭表面,形成毛刺或凸凹不平,在分?jǐn)嚯娏鲿r就會因局部電場過強(qiáng)而產(chǎn)生重燃或重?fù)舸_^大的熔焊力還會使真空滅弧室的觸頭變形,造成開距減小而影響觸頭間的絕緣;(3)分閘反彈的影響。過大的分閘反彈易使真空滅弧室在開斷過程中介質(zhì)強(qiáng)度低于恢復(fù)電壓的強(qiáng)度而造成重燃或重?fù)舸踔敛幌ɑ∈归_斷失敗。另外,如油緩沖器的安裝高度過大,分?jǐn)嘀杏|頭未走完足夠的行程就碰到緩沖器使分?jǐn)嗨俣认陆狄彩怯绊憚討B(tài)絕緣的一個因素。在型式試驗中做異相接地試驗時由于試驗電壓為線電壓,比開斷額定短路電流試驗(T100)時的電壓高15%,這一現(xiàn)象更容易出現(xiàn)。
因此,真空開關(guān)合理的機(jī)械參數(shù)是真空滅弧室使用中良好動態(tài)絕緣的有力保證。
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